Dielectric thin films for future ULSI devices : science and technology, Tokyo, November 5-7, 2008.
Tokyo : The Japan Society of Applied Physics, 2009.
p. : ilustraciones ; 30 cm.
Incluye indices.
Incluye referencias bibliográficas.
Catálogo Bibliográfico
Tokyo : The Japan Society of Applied Physics, 2009.
p. : ilustraciones ; 30 cm.
Incluye indices.
Incluye referencias bibliográficas.