Ion bombardment and ion-assisted etching in rf discharges
Albert Manenschijn.
1991.
147 págs. : ilustraciones, gráficos ; 24 cm.
Director de tesis: Sijbrand Radelaar.
Incluye índice.
Tesis (doctorado, Ingeniería)--Technische Universiteit van Delft, 1991.
Incluye referencias bibliográficas.