Colloque international sur les applications des faisceaux ioniques à la technologie des semiconducteurs = International Conference on Applications of Ions [sic] Beams to Semiconductor Technology : Grenoble, 24-26 mai, 1967
édité par Philippe Glotin.
Gap : Editions Ophrys, [1967]
696 págs. : ilustraciones ; 24 cm.
Título de cubierta: Conference on Applications of Ion Beams to Semiconductor Technology
In French; some papers in English.
Incluye referencias bibliográficas.
Contenido parcial
- Sources d'ions et optique ionique
- Mesures de profils et canalisations
- Defauts et processus secondaires
- Propriétés électriques des ions
- Fabrication de dispositifs.
