Ion bombardment and ion-assisted etching in rf discharges

Albert Manenschijn.

1991.

147 págs. : ilustraciones, gráficos ; 24 cm.

Director de tesis: Sijbrand Radelaar.

Incluye índice.

Tesis (doctorado, Ingeniería)--Technische Universiteit van Delft, 1991.

Incluye referencias bibliográficas.