Manenschijn, Albert.
Ion bombardment and ion-assisted etching in rf discharges / Albert Manenschijn.
— 1991. 147 p. : il., gráficos ; 24 cm.
Director de tesis: Sijbrand Radelaar.
Incluye índice.
Tesis (doctorado, Ingeniería)—Technische Universiteit van Delft, 1991.
Incluye referencias bibliográficas.
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